Ic-Vorrichtung mit Vertikal Gradiertem Silizium-Germanium-Bereich Neben dem Vorrichtungskanal und Verfahren zur Formung

EP4407687 Art B1 19. November 2025

Anmelder: GlobalFoundries U.S. Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4407687
Aktenzeichen
EP23197357
Anmeldetag
14. September 2023
Veröffentlichung
19. November 2025
Erteilung
19. November 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H10D64/27H10D62/17H10D30/67
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
GlobalFoundries U.S. Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 GlobalFoundries U.S.

US-amerikanisches Unternehmen, das als Halbleiter-Auftragsfertiger (Foundry) Chips für andere Unternehmen produziert, darunter Prozessoren und Speicherbausteine für Elektronik-, Automobil- und Kommunikationsanwendungen.

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