Einstufiges Verfahren zur Selektiven Wärmebehandlung von Metallen unter Verwendung mehrerer Wärmequellen
EP4411003
Art A1
7. August 2024
Anmelder: RTX Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4411003
- Aktenzeichen
- EP24155135
- Anmeldetag
- 31. Januar 2024
- Veröffentlichung
- 7. August 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C21D1/04C21D1/42C21D9/00C22F1/10H05B6/02C21D1/26C21D11/00F27B17/00F27D99/00H05B6/06H05B6/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RTX Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
RTX Corporation
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.
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