Aktivlichtempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer Resiststruktur

EP4411477 Art A1 7. August 2024

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4411477
Aktenzeichen: EP22875875
Anmeldetag: 16. September 2022
Veröffentlichung: 7. August 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/004G03F7/038G03F7/20G03F7/32G03F7/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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