Verbundstruktur mit einer Nutzschicht aus Monokristallinem Sic auf einem Polykristallinen Sic-Trägersubstrat und Verfahren zur Herstellung Dieser Struktur
EP4413611
Art A1
14. August 2024
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4413611
- Aktenzeichen
- EP22789271
- Anmeldetag
- 20. September 2022
- Veröffentlichung
- 14. August 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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