Substratverarbeitungsverfahren und Plasmaverarbeitungsvorrichtung
EP4428898
Art A3
27. November 2024
Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4428898
- Aktenzeichen
- EP24175547
- Anmeldetag
- 20. April 2021
- Veröffentlichung
- 27. November 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tokyo Electron Limited
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Vertreten von
Jacob, Reuben Ellis
London, Großbritannien
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