Plasmakammer mit Mehrphasigen Rotierenden Gasquerstrom- und -Peripherieleitungssteuerringen
EP4437579
Art A1
2. Oktober 2024
Anmelder: Applied Materials Inc; 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4437579
- Aktenzeichen
- EP22896306
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 2. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32C23C16/455
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials Inc;
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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