Oxidhalbleiter, Herstellungsverfahren dafür und Halbleiterbauelement damit
EP4439679
Art A1
2. Oktober 2024
Anmelder: Korea Institute of Ceramic Engineering and Technology, IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4439679
- Aktenzeichen
- EP22899107
- Anmeldetag
- 25. November 2022
- Veröffentlichung
- 2. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/20C23C14/08C23C14/58H10D30/67H10D99/00C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Korea Institute of Ceramic Engineering and Technology
IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Iucf-hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University)
Die IUCF-HYU verwaltet Forschungsergebnisse und Patente der Hanyang University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt um anorganische Chemie und Software. Anmeldungen reichen von 2002 bis 2025.
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