Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur

EP4443241 Art A3 6. November 2024

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4443241
Aktenzeichen: EP24166719
Anmeldetag: 27. März 2024
Veröffentlichung: 6. November 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/038G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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