Verfahren zur Bewertung einer auf einem Euv-Maskenrohling Geformten Referenzmarkierung
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4446809
- Aktenzeichen
- EP24167570
- Anmeldetag
- 28. März 2024
- Veröffentlichung
- 30. Oktober 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/24G03F1/38G03F1/84
Abstract
The present invention is a method for evaluating a reference mark formed on an EUV mask blank, the method including steps of: imaging the reference mark formed on the EUV mask blank to obtain a reference mark image; obtaining a reference mark contrast from the obtained reference mark image, the reference mark contrast being contrast between the reference mark and a background level; and evaluating processing accuracy of the reference mark with the obtained reference mark contrast. This provides a method for evaluating an EUV mask blank that can easily evaluate processing accuracy (for example, depth) of a reference mark.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Fachgebiete
Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.