Gegenüber Aktinischer Strahlung Empfindliche Bzw. Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung

EP4446811 Art A1 16. Oktober 2024

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4446811
Aktenzeichen: EP22904102
Anmeldetag: 30. November 2022
Veröffentlichung: 16. Oktober 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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