Substrat für Epitaktisches Wachstum mit Hoher Charakteristik und Verfahren zu Seiner Herstellung
EP4459014
Art A1
6. November 2024
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4459014
- Aktenzeichen
- EP22915483
- Anmeldetag
- 24. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 6. November 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/38C30B25/18H01L21/02H01L21/20C04B41/00C04B41/52C04B41/53C04B41/89C04B41/91C30B29/40C30B33/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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