Alkoholverbindung, Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Formung einer Resiststruktur
EP4459376
Art A3
15. Januar 2025
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4459376
- Aktenzeichen
- EP24200469
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2021
- Veröffentlichung
- 15. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C43/23C07C69/44C07C69/712C07C69/76C07C69/82C08L33/26C08L33/16G03F7/038
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
4.655 Patente in unserer Datenbank