Verfahren zur Herstellung eines Donorsubstrats zur Übertragung einer Piezoelektrischen Schicht und Verfahren zur Übertragung einer Piezoelektrischen Schicht auf ein Trägersubstrat
EP4466729
Art A1
27. November 2024
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4466729
- Aktenzeichen
- EP23700213
- Anmeldetag
- 11. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 27. November 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H01L21/762H10N30/073
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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