Ein System für die Direkte Generative Synthese aus Uv-Induzierten Solvatisierten Elektronen in einem Ausgangsstoff für Halogeniertes Material und Nanopartikel mit Negativer Elektronenaffinität

EP4467341 Art A3 5. März 2025

Anmelder: Lockheed Martin Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4467341
Aktenzeichen: EP24206381
Anmeldetag: 10. Mai 2019
Veröffentlichung: 5. März 2025
Rechtsraum: EP
IPC: B33Y10/00B33Y30/00B29C64/135B29C64/393B28B1/00B32B18/00C04B35/622B23K26/342C04B35/528C04B35/56C04B35/573B33Y70/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lockheed Martin Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lockheed Martin

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Rüstungskonzern mit Sitz in Maryland, tätig in Entwicklung von Kampfflugzeugen, Raketensystemen, Satelliten und Verteidigungstechnik.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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