Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur

EP4468080 Art A1 27. November 2024

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4468080
Aktenzeichen: EP24173164
Anmeldetag: 29. April 2024
Veröffentlichung: 27. November 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/038

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von