Dampfabscheidungsmaske, Dampfabscheidungsmaske mit Rahmen, Verfahren zur Herstellung einer Dampfabscheidungsmaske, Verfahren zur Herstellung einer Organischen Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Dampfabscheidungsmaske mit Rahmen
EP4474523
Art A1
11. Dezember 2024
Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4474523
- Aktenzeichen
- EP23747161
- Anmeldetag
- 30. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 11. Dezember 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/04H05B33/10H10K50/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dai Nippon Printing Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Dai Nippon Printing
Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.
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