Dampfabscheidungsmaske, Dampfabscheidungsmaske mit Rahmen, Verfahren zur Herstellung einer Dampfabscheidungsmaske, Verfahren zur Herstellung einer Organischen Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Dampfabscheidungsmaske mit Rahmen

EP4474523 Art A1 11. Dezember 2024

Anmelder: Dai Nippon Printing Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4474523
Aktenzeichen
EP23747161
Anmeldetag
30. Januar 2023
Veröffentlichung
11. Dezember 2024
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/04H05B33/10H10K50/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Dai Nippon Printing Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Dai Nippon Printing

Japanisches Unternehmen der Druckindustrie mit Sitz in Tokio, das sich über klassische Druckerzeugnisse hinaus in Elektronikmaterialien, Displaykomponenten und Verpackungslösungen diversifiziert hat.

1.824 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen