Reflektierender Fotomaskenrohling mit einer Ein- oder Zweilagigen Hartmaske und Verfahren zur Herstellung einer Reflektierenden Fotomaske durch Trockenätzen des Reflektierenden Fotomaskenrohlings

EP4474904 Art A3 25. Juni 2025

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4474904
Aktenzeichen: EP24178169
Anmeldetag: 27. Mai 2024
Veröffentlichung: 25. Juni 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/24G03F1/48G03F1/58G03F1/80

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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