Beschichtungssystem und Substrat mit Beschichtungssystem

EP4477779 Art A3 15. Januar 2025

Anmelder: RTX Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4477779
Aktenzeichen
EP24179943
Anmeldetag
4. Juni 2024
Veröffentlichung
15. Januar 2025
Rechtsraum
EP
IPC
C23C28/04C23C16/455F01D5/28
Offizieller Volltext

Abstract

A wear-reducing coating system (300) for a substrate (100) includes an innermost layer (304) disposed on a substrate (100) and an outermost layer (302) disposed on the innermost layer (304). The innermost layer (304) has higher load-carrying capacity than the outermost layer (302) and the outermost layer (302) has a lower coefficient of friction than the innermost layer (304). A method of applying a wear-reducing coating (300) to a substrate (100) and a method of applying a coating (300) to a split ring casing (100) for a high pressure compressor are also disclosed.

Anmelder

Firma
RTX Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 RTX Corporation

US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.

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