Substratreinigungsvorrichtung und Wendevorrichtung dafür

EP4481798 Art A1 25. Dezember 2024

Anmelder: ACM Research (Shanghai), Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4481798
Aktenzeichen
EP23755658
Anmeldetag
19. Januar 2023
Veröffentlichung
25. Dezember 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/67
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ACM Research (Shanghai), Inc.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 ACM Research (Shanghai)

ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.

260 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen