Gegenüber Aktinischen Strahlen Empfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren und Herstellungsverfahren für Elektronische Vorrichtung
EP4485073
Art A1
1. Januar 2025
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4485073
- Aktenzeichen
- EP23759571
- Anmeldetag
- 26. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 1. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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