Ionenimplantations-Dickschichtresistzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung eines Verarbeiteten Substrats damit und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung damit

EP4487177 Art A1 8. Januar 2025

Anmelder: Merck Patent GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4487177
Aktenzeichen: EP23707924
Anmeldetag: 27. Februar 2023
Veröffentlichung: 8. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Merck Patent GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Merck KGaA

Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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