Vorrichtung zur Elektrochemischen Behandlung eines Halbleitersubstrats und Verfahren zur Verwendung der Vorrichtung
EP4490348
Art A1
15. Januar 2025
Anmelder: Infineon Technologies AG, RENA Technologies GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4490348
- Aktenzeichen
- EP23717572
- Anmeldetag
- 12. April 2023
- Veröffentlichung
- 15. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C25F3/12C25F7/00H01L21/67
Abstract
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Anmelder
- Firmen
- Infineon Technologies AG
RENA Technologies GmbH - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Kanzlei
LATZEL-IP
München, Deutschland
LATZEL-IP, Patentanwaltskanzlei mit Sitz in München, seit 2009 national und international im gewerblichen Rechtsschutz tätig. Inhaber Dr. Klaus Latzel ist deutscher und europäischer Patentanwalt sowie Marken- und Designvertreter vor dem EUIPO, mit Anmelde-, Einspruchs- und Löschungsverfahren.
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