Piezoelektrikum-Auf-Isolator (poi)-Substrat und Verfahren zur Herstellung eines Piezoelektrikum-Auf-Isolator (poi)-Substrats
EP4490990
Art B1
11. Februar 2026
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4490990
- Aktenzeichen
- EP23707978
- Anmeldetag
- 3. März 2023
- Veröffentlichung
- 11. Februar 2026
- Erteilung
- 11. Februar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H10N30/073H03H9/02H03H3/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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