Poliermittel und Polierverfahren
EP4495204
Art A1
22. Januar 2025
Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4495204
- Aktenzeichen
- EP22938483
- Anmeldetag
- 20. April 2022
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09K3/14B24B37/00H01L21/304C09G1/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Resonac Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München