Saatsubstrat für Hocheigenschafts-Epitaxialwachstum, Verfahren zur Herstellung des Saatsubstrats für Hocheigenschafts-Epitaxialwachstum

EP4495299 Art A1 22. Januar 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4495299
Aktenzeichen: EP23770147
Anmeldetag: 2. Februar 2023
Veröffentlichung: 22. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: C30B25/18C30B29/38H01L21/205

Offizieller Volltext

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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