Verfahren zur Bildung einer Hohlen Leitschaufelanordnung, Hohle Leitschaufelanordnung und Verfahren zur Verbesserung der Belastungsfähigkeit zwischen einer Abdeckung und einem Offenen Körper für eine Hohlen Leitschaufelanordnung
EP4495381
Art A1
22. Januar 2025
Anmelder: RTX Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4495381
- Aktenzeichen
- EP24188939
- Anmeldetag
- 16. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- F01D5/14F01D17/16F01D9/06B22F5/04B22C9/24B23K1/00B33Y10/00B33Y80/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RTX Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
RTX Corporation
US-amerikanischer Luft- und Raumfahrt- sowie Verteidigungskonzern, entstanden aus Raytheon und United Technologies. Entwickelt und fertigt Triebwerke, Avionik, Radarsysteme, Raketen- und Verteidigungstechnik für zivile und militärische Kunden.
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