Beschichtungsmaterial für Photolithographie, Resistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung von Mustern

EP4498159 Art A1 29. Januar 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4498159
Aktenzeichen: EP24188912
Anmeldetag: 16. Juli 2024
Veröffentlichung: 29. Januar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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