Monomer, Polymer, Chemisch Verstärkte Negative Resistzusammensetzung und Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur
EP4498160
Art A1
29. Januar 2025
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4498160
- Aktenzeichen
- EP24189992
- Anmeldetag
- 22. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 29. Januar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/038G03F7/004C08F232/08C09D125/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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