Piezoelektrisches Auf-Isolator (poi)-Substrat und Verfahren zur Herstellung eines Piezoelektrischen Auf-Isolator (poi)-Substrats
EP4500582
Art A1
5. Februar 2025
Anmelder: SOITEC 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4500582
- Aktenzeichen
- EP23715149
- Anmeldetag
- 30. März 2023
- Veröffentlichung
- 5. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/762H03H9/02H10N30/079H10N30/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SOITEC
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Soitec
Französischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Bernin, spezialisiert auf Silicon-on-Insulator (SOI) Substrate. Patente decken Halbleitermaterialien und Waferbondtechnik ab.
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