Integriertes Diamantsubstrat zur Wärmeverwaltung eines Feldeffekttransistors (fet)
EP4500594
Art A1
5. Februar 2025
Anmelder: Raytheon Company 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4500594
- Aktenzeichen
- EP23705165
- Anmeldetag
- 11. Januar 2023
- Veröffentlichung
- 5. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/66H01L23/373H01L23/14H01L29/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Raytheon Company
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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