Verfahren zur Oberflächenbehandlung einer Bornitridplatte, Verfahren zur Herstellung eines Gesinterten Keramikkörpers und Verfahren zur Herstellung einer Bornitridplatte

EP4501536 Art A1 5. Februar 2025

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Toshiba Materials Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4501536
Aktenzeichen: EP23780309
Anmeldetag: 27. März 2023
Veröffentlichung: 5. Februar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: B24B1/00B24B7/22B28B11/08C04B35/583C04B35/587C04B35/64

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Kabushiki Kaisha Toshiba
Toshiba Materials Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.642 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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