Filmabscheidungsverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Filmabscheidungsvorrichtung
Anmelder: RIKEN 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4502730
- Aktenzeichen
- EP24191265
- Anmeldetag
- 26. Juli 2024
- Veröffentlichung
- 5. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/16G06N10/40H01L21/67H10N60/01
Abstract
A film deposition method of the present invention includes: a first step of installing a substrate (100) on a turntable (102) of a spin coating device such that a first main surface (100a) faces the turntable, and adding a first liquid having viscosity dropwise onto a second main surface (100b) of the substrate; a second step of holding the substrate in the same state until the first liquid added dropwise reaches the first main surface (100a) side from the second main surface (100b) side through a through-hole (101); a third step of rotating the substrate (100) together with the turntable (102); and a fourth step of heating the first liquid together with the substrate (100).
Anmelder
- Firma
- RIKEN
- Land
- 🇯🇵 Japan
Japanische staatliche Forschungseinrichtung mit Sitz in Wako bei Tokio, aktiv in Physik, Chemie, Biologie und Ingenieurwissenschaften mit zahlreichen Forschungszentren.
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Vertreten von
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Ipsilon
Ipsilon · Bourg-la-Reine
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Cabinet Laurent & Charras
Cabinet Laurent & Charras · Dardilly