Verfahren zur Hochauflösenden, Stabilen Messung von Rasterabstand und Ausrichtung in Optischen Gittern

EP4505137 Art A1 12. Februar 2025

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4505137
Aktenzeichen: EP23785147
Anmeldetag: 7. März 2023
Veröffentlichung: 12. Februar 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G01B11/27G01B11/14G01B11/24

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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