Dielektrische Zusammensetzung mit Niedrigem K-Wert und Niedrigem Dielektrischem Verlust für den Aerosolstrahldruck
EP4508148
Art A1
19. Februar 2025
Anmelder: Raytheon Company, The University of Massachusetts 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4508148
- Aktenzeichen
- EP23722756
- Anmeldetag
- 14. April 2023
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C09D11/03B29C64/00B33Y10/00B33Y70/00C09D11/106
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Raytheon Company
The University of Massachusetts - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Raytheon Company
US-amerikanisches Rüstungs- und Technologieunternehmen mit Sitz in Massachusetts, heute Teil von RTX Corporation. Entwickelt Verteidigungssysteme, Radartechnik, Flugabwehr, Sensorik und Luftfahrtelektronik.
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🇺🇸
University of Massachusetts
Staatliches Universitätssystem im US-Bundesstaat Massachusetts mit mehreren Standorten, unter anderem Amherst, Boston und Worcester, aktiv in Forschung und Lehre über zahlreiche Fachrichtungen.
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