Systeme und Verfahren zur Überwachung von Slm-Fackel

EP4519736 Art A1 12. März 2025

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4519736
Aktenzeichen
EP23726775
Anmeldetag
2. Mai 2023
Veröffentlichung
12. März 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
NIKON CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

5.286 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen