Verfahren zum Betreiben einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP4521169
Art A1
12. März 2025
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands B.V. 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4521169
- Aktenzeichen
- EP23195956
- Anmeldetag
- 7. September 2023
- Veröffentlichung
- 12. März 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands B.V. - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
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Zeuner Summerer Stütz
Zeuner Summerer Stütz · München