Metallisches Sputtertarget, Herstellungsverfahren dafür und Metallmaterial und Herstellungsverfahren dafür
EP4527971
Art A1
26. März 2025
Anmelder: Tosoh Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4527971
- Aktenzeichen
- EP23807685
- Anmeldetag
- 18. Mai 2023
- Veröffentlichung
- 26. März 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34B22F3/15B22F3/24C22F1/00C22F1/11C22F1/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Tosoh Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tosoh Corporation
Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.
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