Herstellungsverfahren für ein Halbleiterbauelement und Halbleiterbauelement
Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba, Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4528821
- Aktenzeichen
- EP24157090
- Anmeldetag
- 12. Februar 2024
- Veröffentlichung
- 26. März 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/739H01L29/861H01L29/32H01L21/331// H01L29/08H01L29/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Kabushiki Kaisha Toshiba
Toshiba Electronic Devices & Storage Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.
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Toshiba Electronic Devices & Storage ist eine Tochtergesellschaft des japanischen Toshiba-Konzerns für Halbleiterbauelemente und Speicherprodukte. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente, ergänzt um Mess- und Prüftechnik sowie Software und Telekommunikation. Die Anmeldungen betreffen überwiegend Halbleiterbauelemente und zugehörige Steuerschaltungen.
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