Verfahren zur Herstellung von Verbesserten Sic-Substraten und Sic-Epischichten

EP4531075 Art B1 21. Januar 2026

Anmelder: Hitachi Energy Ltd 🇨🇭

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4531075
Aktenzeichen: EP23200325
Anmeldetag: 28. September 2023
Veröffentlichung: 21. Januar 2026
Erteilung: 21. Januar 2026
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/265H01L21/322

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Energy Ltd
Land: 🇨🇭 Schweiz

🇨🇭 Hitachi Energy

Unternehmen mit Sitz in der Schweiz, hervorgegangen aus dem japanischen Hitachi-Konzern und der früheren Energiesparte von ABB. Entwickelt Technik für Stromübertragung, -verteilung und Netzautomatisierung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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