Entwickelbare Resist-Überschichtzusammensetzung sowie Verfahren zur Herstellung einer Resist-Überschichtstruktur und einer Resiststruktur

EP4533180 Art A1 9. April 2025

Anmelder: Merck Patent GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4533180
Aktenzeichen: EP23727026
Anmeldetag: 23. Mai 2023
Veröffentlichung: 9. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/11G03F7/16G03F7/26G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Merck Patent GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Merck KGaA

Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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