Siliciumdioxidteilchen, Herstellungsverfahren Dafür, Siliciumdioxidsol, Polierzusammensetzung, Polierverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterwafers und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

EP4541768 Art A1 23. April 2025

Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4541768
Aktenzeichen: EP23827136
Anmeldetag: 16. Juni 2023
Veröffentlichung: 23. April 2025
Rechtsraum: EP
IPC: C01B33/145B24B37/00C01B33/18C09K3/14C09G1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von