Zusammensetzung zur Bildung eines Resistunterschichtfilms, Resistunterschichtfilm, Verfahren zur Herstellung eines Resistunterschichtfilms und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

EP4542304 Art A1 23. April 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4542304
Aktenzeichen
EP24203027
Anmeldetag
26. September 2024
Veröffentlichung
23. April 2025
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/09G03F7/11G03F7/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kanzlei
Wuesthoff & Wuesthoff München, Deutschland

Wuesthoff & Wuesthoff wurde 1927 in Berlin von Dr. Franz und Dr. Freda Wuesthoff gegründet, die erste deutsche Patentanwältin, und zog 1949 nach München. Schwerpunkte liegen in Biotechnologie und Life Sciences, beraten wird auch auf Chinesisch, Koreanisch und Japanisch.

29.814
Patente gesamt
15
Patentanwälte
1
Standorte

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen