Reflektierender Fotomaskenrohling und Verfahren zur Herstellung einer Reflektierenden Fotomaske

EP4546046 Art A3 14. Mai 2025

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4546046
Aktenzeichen: EP24206625
Anmeldetag: 15. Oktober 2024
Veröffentlichung: 14. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/24G03F1/48G03F1/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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