Halbleitersubstratreinigungszusammensetzung, Verfahren zur Reinigung von Halbleitersubstraten und Verfahren zur Herstellung von Halbleitersubstraten

EP4550387 Art A1 7. Mai 2025

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4550387
Aktenzeichen: EP23831420
Anmeldetag: 27. Juni 2023
Veröffentlichung: 7. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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