Verfahren zur Herstellung eines Grundkörpers eines Optischen Elementes für die Halbleiterlithografie und Grundkörper für ein Optisches Element

EP4551533 Art A1 14. Mai 2025

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4551533
Aktenzeichen
EP23738499
Anmeldetag
4. Juli 2023
Veröffentlichung
14. Mai 2025
Rechtsraum
EP
IPC
C03B19/06C03C3/06C03C8/02
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Carl Zeiss SMT GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Kanzlei
Raunecker Patent Ulm, Deutschland

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