Entwicklertoleranz-Resistunterschichtzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer Resiststruktur

EP4558864 Art A1 28. Mai 2025

Anmelder: Merck Patent GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4558864
Aktenzeichen: EP23744168
Anmeldetag: 19. Juli 2023
Veröffentlichung: 28. Mai 2025
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/09G03F7/095G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Merck Patent GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Merck KGaA

Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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