Substrat für Radikalsensor
EP4562382
Art A1
4. Juni 2025
Anmelder: Applied Materials Inc; 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4562382
- Aktenzeichen
- EP23847145
- Anmeldetag
- 21. Juni 2023
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01K7/02G01K7/16G01K11/26G01N9/00G01D21/02H01L21/67G06N20/00G08C17/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials Inc;
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank