Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats, Verfahren zur Herstellung eines Verarbeiteten Halbleitersubstrats und Schäl- und Auflösungszusammensetzung
EP4571818
Art A1
18. Juni 2025
Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4571818
- Aktenzeichen
- EP23865373
- Anmeldetag
- 6. September 2023
- Veröffentlichung
- 18. Juni 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02C11D7/24C11D7/26C11D7/32// H01L21/311C09J183/04
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nissan Chemical Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nissan Chemical Corporation
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.
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Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München