Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats, Verfahren zur Herstellung eines Verarbeiteten Halbleitersubstrats und Schäl- und Auflösungszusammensetzung

EP4571818 Art A1 18. Juni 2025

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4571818
Aktenzeichen
EP23865373
Anmeldetag
6. September 2023
Veröffentlichung
18. Juni 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02C11D7/24C11D7/26C11D7/32// H01L21/311C09J183/04
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nissan Chemical Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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