Halbleitersubstrat und Verfahren zur Herstellung eines N-Dotierten Gruppe-Iii-Nitrid-Kontakts
EP4571840
Art A1
18. Juni 2025
Anmelder: Infineon Technologies Austria AG 🇦🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4571840
- Aktenzeichen
- EP23216053
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2023
- Veröffentlichung
- 18. Juni 2025
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/08H01L21/02H01L21/338H01L29/778// H01L29/20H01L29/10H01L29/423
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies Austria AG
- Land
- 🇦🇹 Österreich
🇦🇹
Infineon Technologies Austria
Österreichische Konzerngesellschaft des deutschen Halbleiterherstellers Infineon mit Sitz in Villach. Entwickelt und fertigt Halbleiterbauelemente für Automobil-, Energie- und Industrieanwendungen.
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