Substrat und Verfahren zur Herstellung eines Substrats

EP4576199 Art A1 25. Juni 2025

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4576199
Aktenzeichen: EP23218530
Anmeldetag: 20. Dezember 2023
Veröffentlichung: 25. Juni 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L23/373C04B37/00H05K1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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